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研究者发布ICLayout-Bench电路版图设计基准

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AI 综述

Zhangmai Li 等作者发布 ICLayout-Bench 基准,评测 LLM 智能体使用 EDA 工具从晶体管级网表构建并优化 GDSII 版图的能力,通过物理验证、寄生提取和后仿真评估性能。 基准包含 165 个任务,覆盖 13 个工艺设计套件(PDK),工艺节点从 3nm 到 180nm。实验在 21 个公开任务和 19 个私有任务上评测了 7 个模型的 22 种配置。

AI 根据报道生成 · 2 小时前更新

报道时间线

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11月11日
  1. arXiv cs.AI
    ICLayout-Bench:评测 LLM 智能体定制电路版图设计的基准

    研究者发布 ICLayout-Bench 基准,让 LLM 智能体用 EDA 工具从晶体管级网表构建并优化 GDSII 版图,通过物理验证、寄生提取和后仿真评估性能。

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