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上海微电子 SSA/SSB/SSC-800 光刻机已达量产预期，ArFi 版本约落后两年

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AI 综述

Tony Huang（@tphuang）称，上海微电子（SMEE）SSA/SSB/SSC-800 系列光刻机已达量产预期：iLine 机型早期表现不佳，但目前已用于逻辑与存储产线，累计加工数千万片晶圆，有效稼动率超 92%，采用双工件台平台，关键组件 90% 以上来自国产供应商。

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沿着报道，了解事件的不同侧面。

11月9日

04:18
Tony Huang (@tphuang)
上海微电子 SSA/SSB/SSC-800 光刻机已达量产预期，ArFi 版本约落后两年
作者谈上海微电子（SMEE）SSA/SSB/SSC-800 光刻机进展：iLine 机型早期表现不佳，但目前已用于逻辑与存储产线，加工数千万片晶圆，有效稼动率超 92%，并采用双工件台平台、关键组件 90% 以上国产供应商。干式 DUV（SSA800）同期进入验证，进度应相仿；ArFi 机型约落后两年。作者认为验证与导入过程较长，若有外部出口管制进程会加快，没有则更慢，已无重大障碍。

还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。