上海微电子 SSA/SSB/SSC-800 光刻机已达量产预期，ArFi 版本约落后两年
Got asked abt this story. Keep in mind SMEE had SSA/SSB/SSC-800 lithography machines in development @ same time as China's effort to be competitive vs...
AI 导读
作者谈上海微电子（SMEE）SSA/SSB/SSC-800 光刻机进展：iLine 机型早期表现不佳，但目前已用于逻辑与存储产线，加工数千万片晶圆，有效稼动率超 92%，并采用双工件台平台、关键组件 90% 以上国产供应商。干式 DUV（SSA800）同期进入验证，进度应相仿；ArFi 机型约落后两年。作者认为验证与导入过程较长，若有外部出口管制进程会加快，没有则更慢，已无重大障碍。