台积电与ASML设定2031年12英寸光掩模试产线目标

据 DigiTimes 报道，台积电与 ASML 将 2031 年定为 12 英寸光掩模中试线的目标时间，并正在动员供应链投入相关研发。 光掩模是芯片制造中的关键工艺材料，目前主流为较小尺寸；向 12 英寸推进意味着更大的曝光面积，此项目标尚处研发动员阶段，尚未有试产线落地。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。